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美國MicroChem光刻膠有哪些地方適用
2020-11-21 15:58:29    閱讀:2463

MicroChem光刻膠也稱為光致抗蝕劑,是一種光敏材料,它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉移到晶圓片上。

  

  光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經過曝光后,受到光照的部分變得容易溶解,經過顯影后被溶解,只留下未受光照的部分形成圖形;而負膠卻恰恰相反,經過曝光后,受到光照的部分會變得不易溶解,經過顯影后,留下光照部分形成圖形。

  

  負膠在光刻工藝上應用早,其工藝成本低、產量高,但由于它吸收顯影液后會膨脹,導致其分辨率(即光刻工藝中所能形成小圖形)不如正膠,因此對于亞微米甚至更小尺寸的加工技術,主要使用正膠作為光刻

  

  MicroChem光刻膠使用注意事項:

  

 ?、偃舾g液為堿性,則不宜用正性光刻膠

  

 ?、诳垂饪虣C型式,若是投影方式,用常規(guī)負膠時氮氣環(huán)境可能會有些問題

  

 ?、圬撔阅z價格成本低,正性膠較貴

  

 ?、芄に嚪矫妫贺撔阅z能很好地獲得單根線,而正性膠可獲得孤立的洞和槽

  

 ?、萁】捣矫妫贺撔阅z為有機溶液處理,不利于環(huán)境;正性膠屬于水溶液,對健康、環(huán)境無害


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